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ICP-OES MICS DV 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀

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技術參數(shù)
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產品概述
PRODUCT OVERVIEW

電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是目前實驗室無機元素分析的主流手段,具有測試元素 多、測試速度快、檢出下限低、測量范圍寬等特點,可廣泛應用于環(huán)境保護、地質礦產、有 色金屬、石油化工、新能源新材料、高純物質、玩具消費品、食品化妝品等眾多領域,產品 檢測方法多為國家標準及行業(yè)標準認可的測試方法。

技術參數(shù)
TECHNICAL PARAMETER

1.霧化器:高效同心霧化器

2.霧室:霧室為旋流型霧室

3.炬管:配備電感線圈為3匝的垂直放置的一體式炬管

4.蠕動泵:配備5通道16滾軸蠕動泵,分別用于樣品、廢液、內標或稀釋劑、氫化物發(fā)生器等輔助試劑,泵速連續(xù)可調,具有快速清洗功能;蠕動泵滾輪采用非金屬耐腐蝕材料。

5.氣路:氣路部分均采用流量計控制,流量連續(xù)可調;同時可擴展氧氣輔助有機進樣系統(tǒng),防止碳沉積;可擴展Ar,實現(xiàn)氬氣加濕功能,氬氣消耗量:8L/min18L/min;冷卻氣:0.00L/min20.00L/min,精度0.01L/min;輔助氣:0.00L/min2.00L/min,精度0.01L/min;載氣:0.00L/min2.00L/min,精度0.01L/min

6.具有固態(tài)光源技術,頻率27.12MHz,它激式全固態(tài)RF發(fā)生器,功率5001600W步進1W連續(xù)可調,耦合效率>85%,功率穩(wěn)定性≤0.01%RF頻率穩(wěn)定性:≤0.01%;一鍵式點火、熄火操作;電磁場泄露輻射強度:<0.5V/m

7.等離子體源具備冷錐消除尾焰技術,無需配置空氣壓縮機進行尾焰切割,可最大程度地降低自吸效應和電離干擾。

8.等離子體源具有低功率待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行。

9.垂直炬管,雙向觀測;徑向觀測與軸向觀測設計,可適應亞ppm到高含量的元素測量。

10.光柵:中階梯光柵,52.67g/mm,閃耀角63.5°

11.棱鏡:采用超純CaF2材料

12.分析譜線范圍:165nm950nm

13.焦距:400mm

14.分辨率:≤0.007nm@200nm

15.雜散光:10000μg/mlCa溶液在As189.042nm處的等效背景濃度<2ug/ml

16.光室恒溫:高精度恒溫38℃(±0.1℃)

17.光室充氣:多點充氣技術,小流量吹掃1L/min,大流量吹掃4L/min;無需使用真空泵,可避免真空返油從而污染光室。

18.只需要使用背景光譜即可完成譜線飄移校準,無需額外的氖燈、汞燈等光源設備。

19.采用半導體制冷的大面積背照式CCD檢測器,能任意選擇波長,全譜段響應,且具有防溢出功能設計。

20.檢測器表面無任何光轉換化學涂膜,不會因為涂層老化而導致檢測器損壞更換;量子化效率≥75%

21.檢測單元:像面尺寸:25.4mm×25.4mmCCD像素:1024×1024;單像素面積:24μm ×24μm;一次曝光可完成全譜光譜信號的采集讀取。

22.冷卻系統(tǒng):三級半導體制冷,制冷溫度:≤-45℃,穩(wěn)定時間<3分鐘

23.智能化積分設計:針對低含量的元素和高含量元素智能調整積分時間,拓寬動態(tài)范圍,使高低含量元素可以同時檢測,避免試樣反復稀釋。

24.分析軟件:全中文界面,支持中、英、俄等多種語言,針對分析應用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)。具有定性、半定量、定量等分析功能。

25.多窗口多方法分析程序,可同時測量、編輯、查看不同的方法數(shù)據(jù)。

26.軟件譜線庫:≥7萬譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助使用者合理選擇分析譜線

27.軟件提供多樣化的標準系列編輯模式,支持先測試后設置標準、“三明治”方法測試樣品等多種曲線校準模式。

28.軟件支持標準曲線法、標準加入法等分析方法,具有扣除空白、內標校正、IEC干擾校正等多種數(shù)據(jù)處理方法。

29、具有多種報表輸出格式。

30、具有儀器校準功能,支持光源優(yōu)化等功能。

31、具有登錄口令保護功能。

32.儀器性能要求:短期穩(wěn)定性:RSD0.5%;長期穩(wěn)定性:RSD1.0%

33、譜線的線性動態(tài)范圍:≥105(以Mn257.6nm測定,相關系數(shù)≥0.999

34、檢出限:(ug/L

34.1 Zn213.8561

34.2 Ni231.6042

34.3 Mn257.6100.2

34.4 Cr267.7161

34.5 Cu324.7541

34.6 Ba455.4030.2

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